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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:美國CMI 900 X-射線熒光鍍層厚度測量儀

  • 產(chǎn)品型號:CMI 900
  • 產(chǎn)品廠商:美國OXFORD
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
美國CMI 900 X-射線熒光鍍層厚度測量儀 CMI900 X-RAY的原理 X射線熒光(XRF)儀器由激發(fā)源(X射線管)和探測系統(tǒng)構成。X射線管產(chǎn)生入射X射線(一次X射線),激勵被測樣品。樣品中的每一種元素會放射出二次X射線,并且不同的元素所放射出的二次X射線具有特定的能量特性。探測系統(tǒng)測量這些放射出來的二次X射線的能量及數(shù)量。然后,
詳情介紹:

美國CMI 900 X-射線熒光鍍層厚度測量儀
CMI900 X-RAY的原理
X射線熒光(XRF)儀器由激發(fā)源(X射線管)和探測系統(tǒng)構成。X射線管產(chǎn)生入射X射線(一次X射線),激勵被測樣品。樣品中的每一種元素會放射出二次X射線,并且不同的元素所放射出的二次X射線具有特定的能量特性。探測系統(tǒng)測量這些放射出來的二次X射線的能量及數(shù)量。然后,儀器軟件將探測系統(tǒng)所收集到的信息轉換成樣品中各種元素的種類及含量。

利用X射線熒光原理,理論上可以測量元素周期表中的每一種元素。在實際應用中,有效的元素測量范圍為22號元素(鈦Ti)到92號元素(鈾U)。
 
X射線熒光的物理意義:
X射線是電磁波譜中的某特定波長范圍內(nèi)的電磁波,其特性通常用能量(單位:千電子伏特,keV)和波長(單位:鈉米,nm)描述。X射線熒光是原子內(nèi)產(chǎn)生變化所致的現(xiàn)象。一個穩(wěn)定的原子結構由原子核及核外電子組成。這些核外電子圍繞著原子核按不同軌道運轉,它們按不同的能量分布在不同的電子殼層:分布在同一殼層的電子具有相同的能量。
當具有高能量的入射(一次)X射線與原子發(fā)生碰撞時,會打破原子結構的穩(wěn)定性。處于低能量電子殼層(如:K層)的電子更容易被激發(fā)而從原子中逐放出來,電子的逐放會導致該電子殼層出現(xiàn)相應的電子空位。這時處于高能量電子殼層的電子(如:L層)會躍遷到該低能量電子殼層來補充相應的電子空位。由于不同電子殼層之間存在著能量差距,這些能量上的差以二次X射線的形式釋放出來,不同的元素所釋放出來的二次X射線具有特定的能量特性。儀器通過探測不同的元素所釋放出來的二次X射線具有特定的能量特性,進行分析計算得到各鍍層厚度,這一個過程就是我們所說的X射線熒光測厚。
應用

X射線熒光鍍層測厚儀,有著快速,準確,非破壞,非接觸,多層合金測量,高生產(chǎn)力,高再現(xiàn)性等優(yōu)點的情況下進行表面鍍層厚度的測量,從質(zhì)量管理到成本節(jié)約有著廣泛的應用

行業(yè)

用于電子元器件,半導體,PCB,汽車零部件,功能性電鍍,裝飾件,連接器……多個行業(yè)表面鍍層厚度的測量

聯(lián)系:02265352071 林先生
CMI做為***品牌在PCB及電鍍行業(yè)已形成一個行業(yè)標準,華南地區(qū)90%以上的大型企業(yè)都在使用CMI900系列做為檢測鍍層厚度的行業(yè)工具
X-熒光鍍層測厚儀CMI900 金屬鍍層厚度的**測量
CMI 900 系列X射線熒光測厚儀是一種功能強大的材料涂/鍍層測量儀器,可應用于材料的涂/鍍層
厚度、材料組成、貴金屬含量檢測等領域,為產(chǎn)品質(zhì)量控制提供準確、快速的分析.基于
Windows XP
中文視窗系統(tǒng)的中文版 SmartLink FP 應用軟件包,實現(xiàn)了對CMI900主機的**自動化控制,
技術參數(shù):                  
CMI 900 X-射線熒光鍍層厚度測量儀,在技術上一直以來都**于全世界的測厚行業(yè)
A  CMI 900 能夠測量包含原子序號22至92的典型元素的電鍍層、鍍層、表膜,極薄的浸液鍍層(銀、金、鈀、錫等)和其它薄鍍層。區(qū)別材料并定性或定量測量合金材料的成份百分含量可同時測定*多5層、15 種元素。

B :**度**于世界,**到0。025um  (相對與標準片
)
C :數(shù)據(jù)統(tǒng)計報告功能允許用戶自定義多媒體分析報告格式,以滿足您特定的分析報告格式要求 ;

如在分析報告中插入數(shù)據(jù)圖表、測定位置的圖象、CAD文件等。

D :統(tǒng)計功能提供數(shù)據(jù)平均值、誤差分析、*大值、*小值、數(shù)據(jù)變動范圍、相對偏差、UCL(控制上限)、LCL(控制下限)、CpK圖、直方圖、X-bar/R圖等多種數(shù)據(jù)分析模式。

CMI900系列X射線熒光測厚儀能夠測量多種幾何形狀各種尺寸的樣品;

E :可測量任一測量點,*小可達0.025 x 0.051毫米
樣品臺選擇:
CMI900系列采用開槽式樣品室,以方便對大面積線路板樣品的測量。它可提供五種規(guī)格的樣品臺供用戶選用,分別為:

 一:手動樣品臺

1 標準樣品臺:XY軸手動控制、Z軸自動控制。

2 擴展型標準樣品臺:XY軸手動控制、Z軸自動控制。

3 可調(diào)高度型標準樣品臺:XY軸手動控制、Z軸自動控制。
二:自動樣品臺
1   程控樣品臺:XYZ軸自動控制。

2   超寬程控樣品臺:XYZ軸自動控制。
CMI900主要技術規(guī)格如下:
No. 主要規(guī)格 規(guī)格描述

1 X射線激發(fā)系統(tǒng) 垂直上照式X射線光學系統(tǒng)

  空冷式微聚焦型X射線管,Be窗

  標準靶材:Rh靶;任選靶材:W、Mo、Ag等

  功率:50W(4-50kV,0-1.0mA)-標準 X射線管功率可編程控制

  裝備有**防射線光閘

2 濾光片程控交換系統(tǒng) 根據(jù)靶材,標準裝備有相應的一次X射線濾光片系統(tǒng)

  二次X射線濾光片:3個位置程控交換,Co、Ni、Fe、V等多種材質(zhì)、多種厚度的二次濾光片任選

  位置傳感器保護裝置,防止樣品碰創(chuàng)探測器窗口

3 準直器程控交換系統(tǒng) *多可同時裝配6種規(guī)格的準直器,程序交換控制

  多種規(guī)格尺寸準直器任選:-圓形,如4、6、8、12、20 mil等-矩形,如1x2、2x2、0.5x10、1x10、2x10、4x16等

4 測量斑點尺寸 在12.7mm聚焦距離時,*小測量斑點尺寸為:0.078 x 0.055 mm(使用0.025 x 0.05 mm準直器
)
  在12.7mm聚焦距離時,*大測量斑點尺寸為:0.38 x 0.42 mm(使用0.3mm準直器
)
5 X射線探測系統(tǒng) 封氣正比計數(shù)器

  裝備有峰漂移自動校正功能的高速信號處理電路

6 樣品室 CMI900 (選配
)
  -樣品室結構 開槽式樣品室
 
 -*大樣品臺尺寸
 610mm x 610mm 
 -XY軸程控移動范圍 標準:152.4 x 177.8mm任選:
50.8mm x 152.4mm      50.4mm x 177.8mm      101.6 x 177.8mm      177.8 x 177.8mm      610mm x 610mm 
 -Z軸程控移動高度 43.18mm XYZ程控時,152.4mmXY軸手動時,
269.2mm
 -XYZ三軸控制方式 多種控制方式任選:XYZ三軸程序控制、XY軸手動控制和Z軸程序控制、XYZ三軸手動控制
 
 
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